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ADVANCE RIKO北崎臺燈加熱裝置現貨 MILA-5000系列具有紅外金像爐的特點，即高速加熱、冷卻、清潔加熱，是一款小型、低成本的產品，可在任何氣氛下加熱，集成了溫度控制器和這是一種紅外燈加熱裝置，可以通過USB連接在計算機上進行加熱操作，并且可以輕松管理數據。查看詳情
ADVANCE RIKO 日本進口臺燈加熱裝置 MILA-5000系列具有紅外金像爐的特點，即高速加熱、冷卻、清潔加熱，是一款小型、低成本的產品，可在任何氣氛下加熱，集成了溫度控制器和這是一種紅外燈加熱裝置，可以通過USB連接在計算機上進行加熱操作，并且可以輕松管理數據。查看詳情
ADVANCE RIKO先進理工臺燈加熱裝置 MILA-5000系列具有紅外金像爐的特點，即高速加熱、冷卻、清潔加熱，是一款小型、低成本的產品，可在任何氣氛下加熱，集成了溫度控制器和這是一種紅外燈加熱裝置，可以通過USB連接在計算機上進行加熱操作，并且可以輕松管理數據。查看詳情
ADVANCE RIKO先進理工臺燈加熱裝置該裝置是臺燈加熱裝置，可對*大50平方毫米的樣品進行熱處理。臺燈加熱裝置 MILA-5000 系列作為適用于 20mm 見方的加熱裝置，自推出以來，已被許多客戶使用。為此，我們在保持尺寸的同時，實現了 50mm 見方的熱處理。機身緊湊，集加熱爐、加熱室、溫度控制器于一體。查看詳情
ADVANCE RIKO先進理工紅外線燈加熱裝置可以低成本實現80℃/s的高速退火。該設備為紅外燈設備，采用拋物面反射紅外燈對4-6英寸晶圓進行均勻加熱。它能夠進行高速熱處理，可以方便地用作熱處理工藝研究和開發的裝置。我們可以在單個半導體工藝中進行硅化物形成和氧化膜形成，以及化合物半導體的工藝退火。查看詳情
ADVANCE RIKO 日本紅外燈退火設備現貨 10秒達到目標溫度！我們相信我們的紅外燈加熱具有高能量密度、近紅外線、高熱響應、溫度可控、真空清潔加熱等特點。可容納 2 英寸（50 毫米）至 12 英寸（300 毫米）晶圓的產品陣容。我們通過 RTA 系列提供所需的熱處理配方（加熱/冷卻）和氣氛（真空或氣體）來滿足客戶需求。查看詳情
ADVANCE RIKO日本進口紅外燈退火設備 10秒達到目標溫度！我們相信我們的紅外燈加熱具有高能量密度、近紅外線、高熱響應、溫度可控、真空清潔加熱等特點。可容納 2 英寸（50 毫米）至 12 英寸（300 毫米）晶圓的產品陣容。我們通過 RTA 系列提供所需的熱處理配方（加熱/冷卻）和氣氛（真空或氣體）來滿足客戶需求。查看詳情
ADVANCE RIKO原裝紅外燈退火設備北崎 10秒達到目標溫度！我們相信我們的紅外燈加熱具有高能量密度、近紅外線、高熱響應、溫度可控、真空清潔加熱等特點。可容納 2 英寸（50 毫米）至 12 英寸（300 毫米）晶圓的產品陣容。我們通過 RTA 系列提供所需的熱處理配方（加熱/冷卻）和氣氛（真空或氣體）來滿足客戶需求。查看詳情

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