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RIGAKU理學(xué)X 射線膜厚和密度測(cè)量系統(tǒng) RIGAKU理學(xué)X 射線膜厚和密度測(cè)量系統(tǒng) XHEMIS EX-2000，非破壞性薄膜厚度和密度測(cè)量系統(tǒng)新的 XRR 光學(xué)元件和新開(kāi)發(fā)的信號(hào)處理實(shí)現(xiàn)了高吞吐量和高動(dòng)態(tài)范圍通過(guò)采用新開(kāi)發(fā)的帶有高速探測(cè)器的光學(xué)系統(tǒng) 此外，通過(guò)應(yīng)用特殊的信號(hào)處理，可以獲得清晰、高動(dòng)態(tài)范圍的頻譜，而且噪聲很小。查看詳情
RIGAKU理學(xué)在線雙頭微點(diǎn)XRF無(wú)損晶圓檢測(cè) RIGAKU理學(xué)在線雙頭微點(diǎn)XRF無(wú)損晶圓檢測(cè)ONYX3200，在線雙頭微點(diǎn) XRF無(wú)損晶圓檢測(cè)和計(jì)量雙 X 射線源（多毛細(xì)管/單色）*大300 mm 晶圓查看詳情
RIGAKU理學(xué)混合XRF和光學(xué)測(cè)量FAB工具 RIGAKU理學(xué)混合XRF和光學(xué)測(cè)量FAB工具ONYX 3000，能量色散 X 射線熒光光譜儀（ED-XRF）能夠以非破壞性、非接觸的方式同時(shí)分析 300 mm 和 200 mm 晶圓上各種薄膜的厚度和成分。查看詳情
RIGAKU理學(xué)分析痕量從Na到U 的熒光光譜儀 RIGAKU理學(xué)分析痕量從Na到U 的熒光光譜儀TXRF-V310,采用轉(zhuǎn)子式高功率 X 射線發(fā)生器和新設(shè)計(jì)的入射 X 射線單色器。過(guò)渡金屬 LLD 10 采用直接 TXRF 測(cè)量方法8 原子/厘米2 達(dá)到水平。在封閉 X 射線管測(cè)量時(shí)間的 1/3 內(nèi)即可實(shí)現(xiàn)相同的精度，從而實(shí)現(xiàn)高通量。查看詳情
RIGAKU理學(xué)全內(nèi)反射 X 射線熒光光譜儀 RIGAKU理學(xué)全內(nèi)反射 X 射線熒光光譜儀TXRF 310Fab,采用轉(zhuǎn)子式高功率 X 射線發(fā)生器和新設(shè)計(jì)的入射 X 射線單色器。過(guò)渡金屬 LLD 10 采用直接 TXRF 測(cè)量方法8 原子/厘米2達(dá)到水平。在封閉 X 射線管測(cè)量時(shí)間的 1/3 內(nèi)即可實(shí)現(xiàn)相同的精度，從而實(shí)現(xiàn)高通量。查看詳情
RIGAKU理學(xué)全內(nèi)反射X 射線熒光光譜儀 RIGAKU理學(xué)全內(nèi)反射X 射線熒光光譜儀TXRF 3760,對(duì)晶圓表面的污染進(jìn)行無(wú)損、非接觸式和高靈敏度分析轉(zhuǎn)子式高功率 X 射線發(fā)生器和新設(shè)計(jì)的入射 X 射線單色器過(guò)渡金屬 LLD 10 采用直接 TXRF 測(cè)量方法8 原子/厘米2達(dá)到水平。在封閉 X 射線管測(cè)量時(shí)間的 1/3 內(nèi)即可實(shí)現(xiàn)相同的精度，從而實(shí)現(xiàn)高通量查看詳情
RIGAKU日本理學(xué)X 射線光譜儀WaferX 310 RIGAKU日本理學(xué)X 射線光譜儀WaferX 310 WD-XRF ,這是一種波長(zhǎng)色散 X 射線熒光光譜儀（WD-XRF），可以無(wú)損、非接觸地同時(shí)分析 300 mm 和 200 mm 晶圓上各種薄膜的厚度和成分查看詳情
RIGAKU日本理學(xué)晶圓磁盤分析儀 RIGAKU日本理學(xué)晶圓磁盤分析儀3650,這是一種波長(zhǎng)色散 X 射線熒光光譜儀（WD-XRF），可以以非破壞性、非接觸的方式同時(shí)分析*大 ~200 mm 晶圓上各種薄膜的厚度和成分查看詳情

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